京迈研3424 氮化钽靶材 TaN磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3423 硒化铟靶材 In2Se3 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3421 二硒化锗靶材 GeSe2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3420 碲化锗靶材 GeTe磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3419 二硼化钛靶材 TiB2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3418 碳化钛靶材 TiC磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3417 氮化钛靶材 TiN磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3412 锑化锌靶材 Zn3Sb2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3409 碳化钨靶材 WC磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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